By this author

ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ

Issue number 2 from 14.10.2024

Представлено дополнение к электронному литографу на основе оптического микроскопа для быстрого паттернирования крупномасштабных элементов методом контактной масочной фотолитографии в ультрафиолетовом излучении на электронном резисте. Прибор ускоряет создание контактных площадок к твердотельным микро- и наноструктурам и уменьшает риск потери образца при работе с хрупкими структурами.

22 0