Везде

RAS PhysicsПриборы и техника эксперимента Instruments and Experimental Techniques

  • ISSN (Print) 0032-8162
  • ISSN (Online) 3034-5642

E.V. Tarkaeva

Author ID
98309

By this author

  • ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ

    Issue number 2 from 14.10.2024
    Представлено дополнение к электронному литографу на основе оптического микроскопа для быстрого паттернирования крупномасштабных элементов методом контактной масочной фотолитографии в ультрафиолетовом излучении на электронном резисте. Прибор ускоряет создание контактных площадок к твердотельным микро- и наноструктурам и уменьшает риск потери образца при работе с хрупкими структурами.
    19 0

Indexing

Scopus

Scopus

Scopus

Crossref

Scopus

Higher Attestation Commission

At the Ministry of Education and Science of the Russian Federation

Scopus

Scientific Electronic Library