ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ

Martanov, S.G.; Tarkaeva, E.V.; Ievleva, V.A.; Кунцевич, А.Ю.

doi:10.7868/S3034564225020189

PII

S30345642S0032816225020189-1

DOI

10.7868/S3034564225020189

Publication type

Article

Status

Published

Authors

S.G. Martanov

Affiliation: Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук

E.V. Tarkaeva

Affiliation: Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук

V.A. Ievleva

Affiliation:
Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук
Национальный исследовательский университет “Высшая школа экономики”

А.Ю. Кунцевич

Affiliation: Физический институт им. П.Н. Лебедева Российской академии наук

Volume/ Edition

Volume / Issue number 2

Pages

140-144

Abstract

Представлено дополнение к электронному литографу на основе оптического микроскопа для быстрого паттернирования крупномасштабных элементов методом контактной масочной фотолитографии в ультрафиолетовом излучении на электронном резисте. Прибор ускоряет создание контактных площадок к твердотельным микро- и наноструктурам и уменьшает риск потери образца при работе с хрупкими структурами.

Keywords

Date of publication

14.10.2024

Year of publication

2024

Number of purchasers

Views

References

1. Carbaugh D.J., Pandya S.G., Wright J.T., Kaya S., Rahman F. // Nanotechnology. 2017. V. 28. P. 455301. https://doi.org/10.1088/1361-6528/aa8bd5
2. Love J.C., Wolfe D.B., Jacobs H.O., Whitesides G.M. // Langmuir. 2001. V. 17. P. 6005. http://dx.doi.org/10.1021/la010655t
3. Zheng L., Birr T., Zywiet U., Reinhardt C., Roth B. // Light: Advanced Manufacturing. 2023. V. 4. P. 33. http://dx.doi.org/10.37188/lam.2023.033
4. Galiullin A.A., Pugachev M.V., Duleba A.I., Kuntsevich A.Yu. // Micromachines. 2024. V. 15. P. 39. https://doi.org/10.3390/mi15010039
5. Rhee H.-G. Direct Laser Lithography and Its Applications // Lithography / Ed. by M.Wang. 2010. http://doi.org/10.5772/8167
6. Pugachev M.V., Duleba A.I., Galiullin A.A., Kuntsevich A.Y. // Micromachines. 2021. V. 12. P. 850. https://doi.org/10.3390/mi12080850

GOST	Ievleva V., Martanov S., Tarkaeva E., Кунцевич �. ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ // Instruments and Experimental Techniques. – 2025. – Issue number 2 C. 140-144 . URL: https://instrras.ru/s30345642s0032816225020189-1/?version_id=119363. DOI: 10.7868/S3034564225020189
MLA	Ievleva, V.A, Martanov, S.G, Tarkaeva, E.V, Кунцевич, А.Ю "ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ." Instruments and Experimental Techniques. 2 (2025).:140-144. DOI: 10.7868/S3034564225020189
APA	Ievleva V., Martanov S., Tarkaeva E., Кунцевич �. (2025). ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ. Instruments and Experimental Techniques. no. 2, pp.140-144 DOI: 10.7868/S3034564225020189

RAS PhysicsПриборы и техника эксперимента Instruments and Experimental Techniques

ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ

You can

References

Indexing

RAS PhysicsПриборы и техника эксперимента Instruments and Experimental Techniques

ДВУХЭТАПНАЯ ФОТОЭЛЕКТРОННАЯ ЛИТОГРАФИЯ ДЛЯ РАБОТЫ С ХРУПКИМИ НАНОСТРУКТУРАМИ

You can

References

Indexing

Via social network